RMI リッチモアインターナショナル RICHMORE INTERNATIONAL
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MeiVac社
スロットルバルブ
1993年創立以来、MeiVac社は革新的な真空コンポーネントのさまざまなサプライヤーとなっています。
そのもっとも有名な1つは1980年代に開発し特許の独占権を取得した可変ベーン式圧力制御スロットルバルブです。

Key point
■ 精密構造、高速稼働、真空チャンバー圧力のベーン制御
■ 100mmから35インチのバルブ径
■ フランジはISO, JIS, ConFlat, ASAと互換性
■ フランジ材質はステンレス、アルミニウムをお選び頂きます。
スロットルバルブ
スロットルバルブ製品一覧表
MAK マグネトロンスパッターソース
MAKスパッタソースは小型で、取り付けが簡単、そして磁力によりターゲットを固定するのでターゲット 取り付けが容易です。MAKスパッタソースは電路がシールドされているのでDCとRF電力を最小の電力ロス そして少ない反射でカソードに加えることが可能です。

Key point
■ HV(高真空)、 UHV(超高真空) 対応
■ DCまたはRFパワーで動作
■ カソードとマグネットは冷却水から分離されています。

製品一覧
1.3” MAK Sputter Gun
2” MAK Sputter Gun
3” MAK Sputter Gun
4” MAK Sputter Gun
6” MAK Sputter Gun
Insitu Sputter Gun
Multi-source Flange
MAK マグネトロンスパッターソース
MeiVac基板加熱ヒーター
MeiVac基板ヒーターは最高温度と高圧で酸素と他の反応性ガスに耐える設計されています。
その特許デザインは長寿命、低メンテナンスでご提供しております。
MeiVac基板ヒーターはスパッタリング、イオンビーム蒸着、ECR、MOCVD及び他の多くの加熱アプリケーションで使用されています。

基板加熱ヒーター製品一覧表

2” Substrate Heater
3” Substrate Heater
4” Substrate Heater
6” Substrate Heater
MeiVac基板加熱ヒーター
電子銃(e-Vap電子銃)
コンパクト蒸着源から大型蒸着源システムまでの対応が可能です。

Key point
■るつぼサイズ2cc〜400cc
■固定ルツボ、複数ルツボ(3個、4個、6個)
■高真空、超高真空対応
■3kW、6kW、12kW電源、ソースコントローラ、スイープコントローラを供給

e-Vap電子銃

ミニチュアソース (2cc Fixed pocket source)
大型蒸着源システム
大型蒸着源システム

スイープコントローラ>
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